|
晶元半導體臺階測高顯微鏡介紹
VMM測量顯微鏡系列是觀察、測量和處理系統化的顯微鏡陣容。
特點
● 視場寬闊，可得清晰無閃爍正像
● 高精度測量，同時具有大測量范圍和高精度，適用于各種測量
● 可選用高NA物鏡，滿足長工作距離的測量要求
● 照明裝置（反射/透射）可選用高亮度LED的照明或鹵素照明
● 利用可變孔徑光闌進行無衍射觀察測量
● 各類尺寸的標準工作臺
● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數量多的快速移動工作臺
● 高位目鏡觀察
● 便捷CCD圖像成像，可選配多種CCD數碼相機
觀察成像
|
|
|
|
偏光觀察
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有特殊光學特性的材料，如礦石和液晶。
|
微分干涉對比觀察
在檢測金屬、液晶和半導體表面的微小劃痕和階差時很有效。
|
|
|
|
|
暗視場觀察
擋住直射到物體上的光，只觀察散射光，通過高對比度能觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。
|
亮視場觀察
最普通的觀察方式，直接觀察從工件表面反射的光。
|
新功能增強Z軸測量精度
● 輔助對焦（FA）
新近研發的分光棱鏡輔助對焦（FA）提供更銳利的圖案，可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導致的測量誤差被降到最低。
規格
● 無限遠系統，管鏡200mm
● 傾斜角度30°，瞳孔距離55-75mm，正像
● 高眼點，大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm，微動精度0.002mm，測量精度（at20℃），XY-軸的（2.5+0.02L）um，L=測量長度（mm）在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調焦裝置（FA）
技術參數
|
型號
|
VMM-8Ⅰ型
|
VMM-8Ⅱ型
|
VMM-8 Ⅲ型
|
VMM-8
Ⅳ型
|
VMM-12Ⅰ型
|
VMM-12Ⅱ型
|
VMM-12Ⅲ型
|
VMM-12
Ⅳ型
|
|
鏡筒
|
1×光學管徑，雙目目鏡，帶有CCD1/2靶面接口
|
|
觀察圖像
|
正像
|
|
觀測方法
|
輔助對焦系統
|
-
|
-
|
頭部或照明器FA系統
|
頭部或照明器FA系統
|
-
|
-
|
頭部或照明器FA系統
|
頭部或照明器FA系統
|
|
微分干涉對比
|
可選微分觀測對比
|
|
目鏡
|
10X(視場直徑：25mm)，可選十字分劃板，可選：視場直徑：22mm
|
|
物鏡(100x選配)
|
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
|
60mm 5x,
10x,20x,
50x
|
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
|
60mm
5x,
10x,20x,
50x
|
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
|
60mm 5x,
10x,20x,
50x
|
95mm 2x,
5x,10x,
20x,50x
|
60mm
5x,
10x,20x,
50x
|
|
照明裝置
|
反射照明
|
內置孔徑光闌，LED光源，無極亮度調節，可選鹵素照明
|
|
透射照明
|
白色LED照明，無極亮度調節
|
|
工作臺
|
XY測量范圍
|
200*100
|
200*100
|
200*100
|
200*100
|
300*200
|
300*200
|
300*200
|
300*200
|
|
快速釋放裝置
|
X軸和Y軸（標配）
|
|
調零開關
|
X軸和Y軸（標配）
|
|
數顯計器
|
顯示軸
|
2軸或3軸
|
|
分辯率
|
0.0005mm（可選0.00002mm）
|
|
|
|
|
|
VMM-8-Ⅰ型主圖
|
VMM-8-Ⅱ型主圖
|
|
|
|
|
VMM-8-Ⅲ型FA主圖
|
VMM-8-Ⅳ型FA主圖
|
|
|
|
|
VMM-12-Ⅰ型主圖-95mm
|
VMM-12-Ⅱ型主圖-60mm
|
|
|
|
|
VMM-12-Ⅲ型FA主圖-95mm
|
VMM-12-Ⅳ型FA主圖-60mm
|
介紹
95MM金相長工作距離明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統，管徑焦距200mm
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數
|
平場復消色差M PLAN APO L
|
數值孔徑N.A.
|
工作距離W.D.
|
焦距f
|
景深D.F.
|
分辨率R
|
視場
|
|
目鏡(WF10/24)
|
1/2"CCD攝像頭
|
|
2X
|
0.055
|
34.6
|
100
|
91μ
|
5μ
|
Φ12
|
2.4x3.2
|
|
5X
|
0.14
|
45
|
40
|
14μ
|
2μ
|
Φ4.8
|
0.96x1.28
|
|
10X
|
0.28
|
34
|
20
|
3.5μ
|
1μ
|
Φ2.4
|
0.48x0.64
|
|
20X
|
0.29
|
30.8
|
10
|
3.5μ
|
1μ
|
Φ1.2
|
0.24x0.32
|
|
50X
|
0.42
|
20.5
|
4
|
1.6μ
|
0.7μ
|
Φ0.45
|
0.10x0.13
|
|
100X
|
0.55
|
12.5
|
2
|
0.9μ
|
0.5μ
|
Φ0.24
|
0.05x0.06
|
介紹
60MM金相平場半復消色差物鏡。
特點
● 可見光成像
● 物鏡螺紋M26 x 0.706
技術參數
|
名稱
|
物鏡
|
目鏡(WF10/25)
|
|
數值孔徑N.A.
|
有效工作距離W.D.(mm)
|
焦距f′(mm)
|
分辨率R(μm)
|
物理焦深±Δp(μm)
|
物方視場(mm)
|
焦點深度±Δ(μm)
|
|
5X
|
0.15
|
11.6
|
40
|
2.1
|
16.3
|
Φ5
|
38.3
|
|
10X
|
0.3
|
6.3
|
20
|
0.9
|
3.1
|
Φ2.5
|
7.8
|
|
20X
|
0.4
|
10.3
|
10
|
0.69
|
1.8
|
Φ1.25
|
3.5
|
|
50X
|
0.8
|
2
|
4
|
0.34
|
0.4
|
Φ0.5
|
0.8
|
|
100X
|
0.80
|
1.96
|
2
|
0.34
|
0.2
|
Φ0.25
|
0.6
|
介紹
45MM金相平場消色差明場物鏡。
特點
● 可見光成像
● 無限遠光學系統，管徑200mm
● 物鏡螺紋M20.32
技術參數
|
名稱
|
物鏡
|
目鏡(WF10/25)
|
|
數值孔徑N.A.
|
有效工作距離W.D.(mm)
|
焦距f′(mm)
|
分辨率R(μm)
|
物理焦深±Δp(μm)
|
物方視場(mm)
|
焦點深度±Δ(μm)
|
|
5X
|
0.13
|
11.6
|
40
|
2.1
|
16.3
|
Φ5
|
38.3
|
|
10X
|
0.3
|
6.4
|
20
|
0.9
|
3.5
|
Φ2.5
|
7.8
|
|
20X
|
0.4
|
11.1
|
10
|
0.7
|
1.6
|
Φ1.25
|
3.5
|
|
50X
|
0.55
|
8.2
|
4
|
0.5
|
10.9
|
Φ0.5
|
1.4
|
|
100X
|
0.80
|
2
|
2
|
0.4
|
0.4
|
Φ0.25
|
0.7
|
微分干涉介紹
微分干涉DIC在正交偏光的基礎上，插入DIC棱鏡，即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術，可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計，使得整個視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色，高倍物鏡DIC效果也較好。
|
手機：13818629801
郵箱：sales@sh-opt.com
地址：上海市嘉定區金沙江西路1555弄8號樓2樓